干蚀刻工艺带走的是光阻吗 瑞丽范 心理 2.01W 大中小设置文字大小 干蚀刻工艺带走的是光阻,利用电浆(plasma)来进行半导体薄膜材料的蚀刻加工。其中电浆必须在真空度约10至0.001Torr的环境下,才有可能被激发出来 TAG标签:光阻 蚀刻 带走 #