国内目前光刻机处于怎样的水平 瑞丽范 心理 2.58W 大中小设置文字大小 我国的光刻机技术仍然处于低端水平,上海微电子的光刻机代表我国光刻机的最高水平,制程工艺为90nm,而ASML的光刻机已经进入5nm的制程工艺,我国的高端光刻机全部依靠进口 TAG标签:光刻机 #