光学镀膜工艺流程

光学镀膜工艺：构成光学涂层的各个层的厚度通常为几十纳米到几百纳米，而单个光学涂层可以由几百层组成。

首先表面制造开始，以最大限度地减少表面粗糙度和亚表面损伤。

继续进行表面清洁和准备，然后是高性能薄膜设计的沉积。沉积技术包括热蒸发、电子束、离子辅助沉积和先进的等离子体沉积。

再进行涂层，取决于操作环境、光谱要求、物理特性、应用要求、和经济目标。

光学镀膜过程通过使用精密计量工具的综合性能测试完成。