幹蝕刻工藝帶走的是光阻嗎 瑞麗範 心理 2.01W 大中小設置文字大小 幹蝕刻工藝帶走的是光阻,利用電漿(plasma)來進行半導體薄膜材料的蝕刻加工。其中電漿必須在真空度約10至0.001Torr的環境下,纔有可能被激發出來 TAG標籤:帶走 蝕刻 光阻 #