高純溼電子的用途

主要應用在半導體、平板顯示、太陽能光伏領域等微電子器件製造領域，廣泛應用於超大規模集成電路、LED、TFT-LCD面板製造過程、太陽能硅片的蝕刻與清洗。

超淨高純試劑的應用多種多樣，例如在晶圓生產過程中對於晶圓的清洗，在芯片製造光刻工藝中的刻蝕、顯影和洗脫過程，同時在芯片製造和PCB板製造中的電鍍液（例如硫酸銅）的製備原料硫酸也屬於超淨高純試劑範疇。晶圓清洗試劑是前端加工關鍵工藝。