求厚度公式怎麼計算

一 可以按如下公式計算：

鍍鉻層厚度（微米）= 鉻的電化當量（克/安培*小時）* 陰極電流密度（安培/分米2)* 電鍍時間（分）* 陰極電流效率（%）/ 60 * 鍍鉻層密度（克/釐米3）。

二 以下方法可直接、方便知道鍍鉻的沉積速度

HEEF-25 快速鍍鉻的沉積速度

電流密度（A/dm2) 鍍層沉積速度（微米/小時）

30 30

45 50

60 70

75 90

（HEEF-25 快速鍍鉻的電流效率達到25%左右，其沉積速較快，普通鍍鉻的電流效率在13%左右，可知其沉積度約爲 HEEF-25的1/2左右） 。