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電漿鍍膜的原理和特點

電漿鍍膜的原理和特點

原理和特點

蒸發源接陽極,工件接陰極,當通以三至五千伏高壓直流電以後,蒸發源與工件之間產生輝光放電。

由於真空罩內充有惰性氬氣,在放電電場作用下部分氬氣被電離,從而在陰極工件周圍形成一電漿暗區。

帶正電荷的氬離子受陰極負高壓的吸引,猛烈地轟擊工件表面,致使工件表層粒子和髒物被轟濺丟擲,從而使工件待鍍表面得到了充分的離子轟擊清洗

隨後,接通蒸發源交流電源,蒸發料粒子熔化蒸發,進入輝光放電區並被電離。

帶正電荷的蒸發料離子,在陰極吸引下,隨同氬離子一同衝向工件,當拋鍍於工件表面上的蒸發料離子超過濺失離子的數量時,則逐漸堆積形成一層牢固粘附於工件表面的鍍層。

電漿鍍膜的原理和特點

.原理和特點。

以金屬靶材料( 如金或其合金等) 和樣品臺分別作為陰極和陽極。在真空狀態下,通過兩電極之問的直流電壓使氣體分子電離並且產生輝光放電。帶正電的氣體離子在電場作用下轟擊金屬靶並且將其原子撞出,這一現象稱為電漿濺射( 亦稱為二極濺射) 。

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