半導體硅與氧氣反應

硅和氧氣反應的化學方程式是SiH4+3O2=SiO2+2H2，硅是一種化學元素，化學符號是Si，舊稱矽。原子序數14，相對原子質量28.0855，有無定形硅和晶體硅兩種同素異形體，屬於元素週期表上第三週期，IVA族的類金屬元素。

硅也是極為常見的一種元素，然而它極少以單質的形式在自然界出現，而是以複雜的硅酸鹽或二氧化硅的形式，廣泛存在於巖石、砂礫、塵土之中。硅在宇宙中的儲量排在第八位。在地殼中，它是第二豐富的元素，構成地殼總質量的26.4%，僅次於第一位的氧（49.4%）。

二氧化硅硅與氧氣反應 條件：把硅研磨後加熱 現象：硅會燃燒，生成白煙硅的燃燒生成的二氧化硅會阻礙氧氣與硅接觸，使得反應減慢.硅與氧氣和水反應的生成硅酸和碳酸鈉。。。。

硅與氧氣反應的方程式是Si+O2=SiO2，硅（台灣，香港稱矽xī）是一種化學元素，它的化學符號是Si，舊稱矽，原子序數14，相對原子質量28.0855。硅原子和氧原子長程有序排列形成晶態二氧化硅，短程有序或長程無序排列形成非晶態二氧化硅。