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抛光布原理

抛光布原理

抛光布是金属表面通过有规则溶解达到光亮平滑。在化学抛光过程中,钢铁零件表面不断形成钝化氧化膜和氧化膜不断溶解,且前者要强于后者。

由于零件表面微观的不一致性,表面微观凸起部位优先溶解,且溶解速率大于凹下部位的溶解速率而且膜的溶解和膜的形成始终同时进行,只是其速率有差异,结果使钢铁零件表面粗糙度得以整平,从而获得平滑光亮的表面。

抛光可以填充表面毛孔、划痕以及其它表面缺陷,从而提高疲劳阻力、腐蚀阻力。

抛光布原理

抛光布

采用超精密涂布技术,将精密研磨微粉涂布于高强耐磨布基表面而成,广泛用于TFT-LCD制程中偏光片贴附前的清洁处理。其中磨料种类可有氧化铝、氢氧化铝、氧化铈、金刚石、碳酸钙、碳化硅等。

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