等离子镀膜的原理和特点

原理和特点

蒸发源接阳极，工件接阴极，当通以三至五千伏高压直流电以后，蒸发源与工件之间产生辉光放电。

由于真空罩内充有惰性氩气，在放电电场作用下部分氩气被电离，从而在阴极工件周围形成一等离子暗区。

带正电荷的氩离子受阴极负高压的吸引，猛烈地轰击工件表面，致使工件表层粒子和脏物被轰溅抛出，从而使工件待镀表面得到了充分的离子轰击清洗。

随后，接通蒸发源交流电源，蒸发料粒子熔化蒸发，进入辉光放电区并被电离。

带正电荷的蒸发料离子，在阴极吸引下，随同氩离子一同冲向工件，当抛镀于工件表面上的蒸发料离子超过溅失离子的数量时，则逐渐堆积形成一层牢固粘附于工件表面的镀层。

等离子镀膜的原理和特点

．原理和特点。

以金属靶材料( 如金或其合金等) 和样品台分别作为阴极和阳极。在真空状态下，通过两电极之问的直流电压使气体分子电离并且产生辉光放电。带正电的气体离子在电场作用下轰击金属靶并且将其原子撞出，这一现象称为等离子溅射( 亦称为二极溅射) 。