激光退火设备原理

激光退火设备工作原理：

传统的加热退火技术是把整个工件放在真空炉中。 激光退火技术开始主要用于修复离子注入损伤的半导体材料，特别是硅，在一定的温度(300°～1200℃)保温退火10～60min。 退火是一种金属热处理工艺，指的是将金属缓慢加热到一定温度，保持足够时间，然后以适宜速度冷却。目的是降低硬度，改善切削加工性消除残余应力，稳定尺寸，减少变形与裂纹倾向细化晶粒，调整组织，消除组织缺陷。准确的说，退火是一种对材料的热处理工艺，包括金属材料、非金属材料。而且新材料的退火目的也与传统金属退火存在异同。